我的一九八五第九五六章 研发极紫外光

前世虽然nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功f2准分子激光器和浸没式光刻技术生产成功浸没式光刻机但半导体产业更新换代迅速导致nikon光刻机的可靠性能始终落后于asml从此全球高端光刻机龙头nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主asml。

前世由于asml独有的euv光源无人能够研制国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力以美国为首的西方国家并没有限制arf准分子激光器和arfi准分子激光器的出口。

bsec可以直接进口市场价45五万美元一台的gca牌arf准分子激光器购买蔡司公司生产的光学系统进口6英寸晶圆加上独创的光刻机磁悬浮式双工作台系统就能生产1um制程工艺的光刻机虽然6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线是西方国家淘汰的生产线但在国内还大有市场。

bsec就可以活下来！ 理想很美好但现实很骨感bsec就是能制造1um制程工艺的光刻机不代表能生产6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线！ 国内缺乏半导体生产线设备的全产业链如今都压在了bsec的肩上。

bsec生产的1um制程工艺的光刻机也没有晶圆公司会用！ 谁投资谁倒霉这就是“造不如买、买不如租”的主要原因！ 好在193nm波长的世界性光学难题将困惑光刻机行业八年给了bsec成长的机会不然重生者也无能为力。

bsec的突破点就是赶在asml之前率先研制成功世界上第一台193nm波长的浸没式光刻机！ 孙健所有的运作就是围绕这个突破点！ euv光刻机太过复杂即使投入巨资研发成功euv光源但对相关的光学系统、光刻胶、掩膜版等设备和材料的要求太过苛刻需要十万个零件据说前世有五千多家生产商为euv光刻机供货重生者还不敢付诸实践。

“孙董事长bsec能否不转让磁悬浮式双工作台系统专利给nikon？” 拥有了bsec的磁悬浮式双工作台系统专利的终身授权gca光刻机光学精密设备研究所升级改造只要研制成功适应800nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统（不能出售和转让专利技术）gca光刻机的制程工艺就有可能达到500nm达到nikon光刻机的制程工艺购买休斯电子材料公司（aemc）生产的8英寸晶圆还能提高35%左右的产能。

有了磁悬浮式双工作台系统和蔡司公司的光学系统gikon重新争夺高端光刻机市场份额的资本。

但前提是bse。

“艾德里安总经理bsec开发的光刻机磁悬浮式双工作台系统拿到日本和欧美国家签发的公司发明专利要等18个月左右。

” “孙董事长我放心了！” 艾德里安顿时轻松了一大截孙董事长还是挺幽默的。

“汤普森院长公司如今经费紧张光源研究所是继续研制arf准分子激光器？还是像nikon开始研制f2准分子激光器？” “孙董事长我认为光源研究所应该另辟蹊径开始研制波长只有十几个纳米的极紫外光？” gca在八五年就研制成功arf准分子激光器在光刻机光源领域全球领先但在透镜和反射镜构成的光学系统方面逊于nikon半导体设备公司不断提升的光学系统加上光刻机光源被卡在193nm波长上多年又遭遇全球芯片生产的衰退期光刻机的霸主地位逐渐被光学系统不断提升的nikon半导体设备公司抢走年年亏损公司裁人技术人员流失沦落到两次被贱卖的地步。

“汤普森院长预测光源研究所能在多长的时间内研制成功极紫外光？” 孙健心中一喜他不是不想投资研制极紫外光而是担心投资太大即使研制成功没有配套的光学系统和相适应的光刻胶、掩膜版等gca也生产不出euv光刻机！ 前世举国之力研制13.5nm的euv光源也没有结果在世界上只有asml控股的cymer才能生产euv光源可见难度之大！ 在光刻机光源方面光刻机光源后起之秀cymer如今还不是gca的对手。

cymer前世能成为光刻机光源的霸主除了被asml收购后不断投入巨资研发外也有asml将收购的gca光刻机光源研究所并入cymer光刻机光源研究院强强联合。

前世极紫外光技术的研发成功不知道汤普森院长在其中发挥的作用？ gca光刻机半导体研究院的研究重心应该放在技术领先的arf准分子激光器和krf光刻胶研制上。

gca与ibm同是sematech会员赢者通吃避免重复研究不担心ibm卡b子ibm垄断krf光刻胶十几年但不知道什么原因？前世是信越化学等日本公司在光刻胶上一枝独秀还卡了韩国人的脖子！ 本小章还未完请点击下一页继续阅读后面精彩内容！。

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